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光刻膠

半導體材料 - 光刻膠

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料??捎糜谏罟杩涛g,適合于高深寬比工藝,透明度高,垂直度好。
  • 產品介紹
  • 案例展示
類型 光刻膠型號 適用光譜 厚度um 分辨率 適用工藝
AZ系列 AZ5214,AZ4620,AZ6130等 g/h/i-line 1-30um 1um 可用于深硅刻蝕
SU-8系列 SU-8 10系列,20系列等 g/h/i-line 0.1-400um 0.5um 適合于高深寬比工藝,透明度高,垂直度好
PI LTC9000系列 g/h/i-line 4-50um 4um 用于非銅襯底工藝,固化溫度最低可以達到250C°
電子束膠 HSQ Fox-15/16 電子束 100nm 350nm-810nm 分辨率最好的光刻膠,抗刻蝕

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